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發泡劑工業廢氣治理

關鍵詞:發泡劑工業廢氣治理
產品概述:溫等離子技術:Low temperature plasma technology 低溫等離子的反應機理是利用高達 7 到 10 電子伏的高能電子以每秒鐘 300 萬至 3000 萬速度的等量發射和回收,轟擊廢氣的分子將廢氣分子中化學鍵打開(苯環中化學鍵能為 3 電子伏),使其處于極不穩定態,與伴生的強氧化…
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低溫等離子技術:Low temperature plasma technology 

  低溫等離子的反應機理是利用高達 7 到 10 電子伏的高能電子以每秒鐘 300 萬至 3000 萬速度的等量發射和回收,轟擊廢氣的分子將廢氣分子中化學鍵打開(苯環中化學鍵能為 3 電子伏),使其處于極不穩定態,與伴生的強氧化劑羥基和活性氧原子等發生氧化反應,^終生成二氧化碳和水。


  低溫等離子是繼固態、液態、氣態之后的物質第四態,當外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。這個體系中因總的正、負電荷數相等,放電過程中雖然電子能量很高,但重粒子能量很低,整個體系呈現低溫狀態,所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子以每秒鐘 300 萬至 3000 萬速度的等量發射和回收,轟擊發生臭氣的分子,從而發生氧化等一系列復雜的化學反應,使污染物分子在極短的時間內發生分解,并發生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。

光化學技齊:Photochemical techniques

  光化學技術利用高強輻照場對惡臭物質的破壞作用和氧對惡臭物質的氧化去除作用來去氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇、芳香烴等 voc (揮發性有機物),并利用氧在強輻照下分解所產生的活潑的次生氧化劑來氧化有害物質,輻照場和氧一道,存在著一個協同作用,這種協同作用使該技術對惡臭去除的速率得到 7 至 9 個數量級的增加,即反應速度增加千萬至十億倍。輻射與惡臭氣體分子的相互作用可以看做是輻射場(震蕩電場)與電子(震蕩偶極子)會聚時的一種能量交換。硫化氫等惡臭氣體分子在輻照射線的作用下,物質分子的能態發生改變,即分子的轉動、振動或電子能級發生變化,由低能態被激發至高能態,這種變化是量子化的。量子化反應并結合過濾凈化、吸附凈化等技術達到惡臭氣體徹底凈化和達標排放的目的。
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